仪器编号：20087718

生产厂家：日立高新那珂事业所（日本，S-3400N）

主要规格及技术指标：1.SEM:二次电子分辨率3.0nm(高真空,30kV),4.0nm(可变压力，25kV)，10nm(高真空，3kV)。 2.加速电压:0.3～30kV 3.放大倍数:5～30万 4.电子枪：预对中钨灯丝，样品最大尺寸200mm，最大高度80mm，标准样品平台 5.5轴马达驱动 6.能谱：133eV分辨率，定量分析软件，图像软件，多目标谱分析、线扫描、面扫描。

主要功能及特色：表面形貌分析和微区成分分析。

主要附件及配置：镀膜机。