仪器编号:20087718
生产厂家:日立高新那珂事业所(日本,S-3400N)
主要规格及技术指标:1.SEM:二次电子分辨率3.0nm(高真空,30kV),4.0nm(可变压力,25kV),10nm(高真空,3kV)。 2.加速电压:0.3~30kV 3.放大倍数:5~30万 4.电子枪:预对中钨灯丝,样品最大尺寸200mm,最大高度80mm,标准样品平台 5.5轴马达驱动 6.能谱:133eV分辨率,定量分析软件,图像软件,多目标谱分析、线扫描、面扫描。
主要功能及特色:表面形貌分析和微区成分分析。
主要附件及配置:镀膜机。